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XUV-Spektralphotometer zur kostengünstigen Charakterisierung von Optiken entwickelt

27.02.2007 - (idw) PhotonicNet GmbH Kompetenznetz Optische Technologien

Präsentation der Ergebnisse vom InnoNet-Projekt SpeXUV am 14. März in Hannover Der Trend der Halbleiterindustrie hin zu im­mer kleineren Strukturen unter Zuhilfe­nahme von Strahlung immer kürzerer Wellenlänge hat in der Vergangenheit eine Vielfalt innova­ti­ver Produkte ermöglicht. In den kommenden Jah­ren wird für die industrielle Fertigung Strah­lung im extremen Ultraviolett­ zunehmend an Bedeu­tung gewinnen. Damit rückt die Reali­sie­rung von praxisnahen EUV/XUV-Strahl­quel­len mittlerer und kleiner Leistung für Anwendungen auch außerhalb der Lithografie in greifbare Nähe. Der hieraus erwachsende Bedarf an Mess­verfahren zur Charakteri­sie­rung von Kompo­nen­ten für diesen Spektral­bereich hat die Verbund­partner 2003 zur Initiierung des Forschungsnetzwerks SpeXUV - "Anwen­­dungsnahe Analyseverfahren mittels XUV-­Spektralphoto­metrie" - im Rahmen des BMWi-Förderprogramms InnoNet veran­lasst.

Am 14. März werden die Ergebnisse im Rahmen eines PhotonicNet-Forums am Laser Zentrum Hannover präsentiert. Im Mittelpunkt steht der im Projekt entwickelte Prototyp eines XUV-Spektral­photometers. Des Weiteren sind Fachvorträge zur Ent­wick­lung von Labor­strahlquellen für extreme UV-Strahlung sowie praktische Vorführungen und Diskussionsforen über Einsatz­gebiete der Messverfahren auch außerhalb der EUV-Halbleiter­lithographie vorgesehen.

Ziel des Netzwerks war es, geeignete Verfahren zur Charakterisierung neuartiger Materialien und Komponenten in Bezug auf ihre Einsetzbarkeit im EUV/XUV-Spektralbereich zu erarbeiten und eine kostengünstige Umsetzung für kleine und mittlere Unternehmen sowie Forschungs­institute zu gewährleisten. Dies ist mit dem im Verbundprojekt entstandenen XUV-Spektral­photometer gelungen. Es lässt sich zur Charakterisierung, Optimierung und Qualitätssicherung spezieller Schichtsysteme sowohl in der grundlagenorientierten Forschung als auch in der Halbleiterlithographie anwenden. Die Entwicklung von Schichtsystemen und Optikkompo­nen­ten wird damit zukünftig schneller und preisgünstiger, weil nicht mehr auf Mess­apparaturen an Beschleunigern und Groß­for­schungs­einrich­tungen zurückgegriffen werden muss.

Den wissenschaftlichen Kern des Ende 2006 abgeschlossenen Forschungsverbundes SpeXUV bildeten das Institut für Quantenoptik der Universität Hannover, das Laser-Laboratorium Göttingen und das koor­di­nie­ren­de Laser Zentrum Hannover. Beteiligt waren außerdem acht Industrieunternehmen, darunter die niedersächsischen Firmen Xtreme technologies, phoenix|euv, Trinos, Laseroptik und Metrolux.

Koordination SpeXUV:

Laser Zentrum Hannover e.V.
Laserkomponenten / Charakterisierung
Dr. Kai Starke
Tel. 0511 / 2788-244
Mail: K.Starke@lzh.de

Veranstaltungsorganisation:

PhotonicNet GmbH
Kompetenznetz Optische Technologien
Ann Haselroth
Tel. 0511 / 277 16 42
Mail: haselroth@photonicnet.de
Weitere Informationen: http://www.photonicnet.de/veranstaltungen/angebote-photonicnet/events-2007/forum-spexuv-14-03.2007/pn_flyerspexuv.pdf
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